Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd. ir viens no pieredzējušākajiem tetrametilortosilikāta cas 681-84-5 ražotājiem un piegādātājiem Ķīnā. Laipni lūdzam vairumtirdzniecībā augstas kvalitātes tetrametilortosilikāta cas 681-84-5 pārdošanai šeit no mūsu rūpnīcas. Ir pieejams labs serviss un saprātīga cena.
Tetrametilortosilikātsir bezkrāsains un caurspīdīgs šķidrums ar unikālu smaržu, kas ir viegli higroskopisks. Molekulārā formula C4H12O4Si, CAS 681-84-5, nešķīst ūdenī, sajaucas ar lielāko daļu organisko šķīdinātāju. Nedaudz šķīst benzolā, etanolā un ēterī. Tas ir nestabils ūdens klātbūtnē un gaisā pakāpeniski sadalās silīcija oksīdā. Tas viegli sajaucas ar organiskiem šķīdinātājiem un nešķīst ūdenī. Uzliesmojošs. Toksisks. Korozija. Tā ir viena no bīstamajām ķīmiskajām vielām. Ja tas ir ūdens, tas sadalīsies viskozā silīcija dioksīdā. Ja ir atklāta liesma, augsta temperatūra vai saskare ar oksidētājiem, tas var izraisīt aizdegšanos. Pēc karsēšanas tas sadalīsies toksiskās gāzēs, kurām ir spēcīga kairinoša iedarbība uz elpceļiem un acīm. Izmanto karstumizturīgu un ķīmiski izturīgu pārklājumu, organisko silīcija šķīdinātāju un līmvielu ražošanai precīzai liešanai. Tas ir arī plaši izmantots organiskās sintēzes starpprodukts.
|
Ķīmiskā formula |
C4H12O4Si |
|
Precīza Mise |
152 |
|
Molekulmasa |
152 |
|
m/z |
152 (100.0%), 153 (5.1%), 153 (4.3%), 154 (3.3%) |
|
Elementu analīze |
C, 31,56; H, 7,95; O, 42,04; Si, 18.45 |
|
|
|
Tetrametilortosilikātsir svarīgs silīcija savienojums, ko plaši izmanto organiskajā sintēzē, pārklājumos, stiklā, keramikā un citās jomās. Konkrētās darbības ir šādas:
Ķīmiskais vienādojums reakcijai starp nātrija silikātu un sērskābi, lai iegūtu tetrametilsilikāta skābekli un nātrija sulfātu, ir:
Na2SiO3 + H2SO4→ Na2SO4 + Si(CH3)4
Sausā reaktorā pievieno noteiktu daudzumu nātrija silikāta (Na2SiO3) un metanola. Pārliecinieties, ka nātrija silikāts ir pilnībā izšķīdis metanolā.
Lēnām kā katalizatoru pievienojiet noteiktu daudzumu sērskābes. Pievērsiet uzmanību sērskābes pievienošanas ātruma kontrolei, lai izvairītos no pārmērīgas reakcijas.
Uzkarsē reakcijas maisījumu līdz noteiktai temperatūrai un uztur nemainīgu temperatūru. Šai temperatūrai vajadzētu būt pietiekamai, lai izraisītu reakciju, taču tā neizraisīs citas blakusparādības.
Sildīšanas procesā nātrija silikāts reaģē ar sērskābi, veidojot nātrija sulfātu un tetrametilsilikāta skābekli. Šī reakcija ir atgriezeniska, un reakcijas līdzsvaru var regulēt, kontrolējot reakcijas apstākļus (piemēram, temperatūru un laiku).
Kad reakcija ir pabeigta, atdzesējiet reakcijas maisījumu līdz istabas temperatūrai.
Atdaliet radušos tetrametilsilikāta skābekli, izmantojot tādas metodes kā filtrēšana vai centrifugēšana.
Veikt atdalīto produktu tīrības pārbaudi un īpašību analīzi, lai pārliecinātos, ka iegūtie produkti atbilst prasībām.
Sintezējot tetrametilsilikāta skābekli laboratorijā, jāņem vērā šādi punkti:
Izejvielu tīrība būtiski ietekmē produktu kvalitāti un ražu, tāpēc ir jānodrošina, lai izmantotais nātrija silikāts, metanols un sērskābe būtu augstas tīrības pakāpes.
Reakcijas temperatūra un laiks ir svarīgi faktori, kas ietekmē reakcijas līdzsvaru, tāpēc ir nepieciešams kontrolēt sildīšanas ātrumu un reakcijas laiku, lai iegūtu vislabāko iznākumu un tīrību.
Filtrēšana un atdalīšana ir galvenie soļi augstas{0}}tīrības produktu iegūšanai, tāpēc ir jāizvēlas piemērotas filtrēšanas metodes un atdalīšanas aprīkojums, lai izvairītos no produktu piesārņošanas un zudumiem.
Vēl viena tetrametilsilikāta skābekļa sintezēšanas metode ir tetrametilsilikāta skābekļa iegūšana, silāna spirtam reaģējot ar spirtu.
Reakcijas vienādojums starp silāna spirtu un spirtu:
R1R2SiOH + R3R4OH → R1R2Si(OR3) + OR4H
Starp tiem R1, R2, R3, R4 ir organiskas grupas, kas var būt alkilgrupas, arilgrupas utt.
Tetrametilsilikāta estera hidrolīzes reakcijas vienādojums:
(CH3)4Si (OR3) → (CH3)4SiO + R3OH
Izejvielu sagatavošana: Silanols, spirts, katalizators (piemēram, sērskābe vai sālsskābe).
Sajauc silāna spirtu ar spirtu, lai nodrošinātu pilnīgu silāna spirta izšķīšanu spirtā.
Lēnām pievienojiet katalizatoru un vienmērīgi samaisiet.
Reaģējiet ar reakcijas maisījumu noteiktā temperatūrā un spiedienā. Reakcijas procesā silāna spirta hidroksilgrupa tiek esterificēta ar spirtu, iegūstot tetrametilsilikāta esteri.
Destilē reakcijas maisījumu, lai atdalītu tetrametilsilikāta esteri.
Tetrametilsilikāta estera hidrolīzes reakcija dod tetrametilsilikāta skābekli.
Tetrametilortosilikāts(TMOS) ar ķīmisko formulu Si (OCH ∝) ₄ ir bezkrāsains un caurspīdīgs šķidrums ar estera aromātu, taču tas ātri hidrolizējas un veidojas šķērssavienojumi, pakļaujoties mitrai videi. Kā galvenā izejviela silīcija organiskā jomā, četras hidrolizējamās metoksisilāna grupas tā molekulārajā struktūrā piešķir tai unikālu reaktivitāti, padarot to par neaizvietojamu "neredzamo čempionu" augsto tehnoloģiju jomās, piemēram, augstas-temperatūras materiāli, elektroniskais iepakojums, jauna enerģija un ēku aizsardzība.
1. Aviācija un augstas temperatūras{1}}materiāli
Augstas temperatūras izturīgs pārklājums: kompozītmateriāls, ko veido TMOS un fenola sveķu kombinācija, kas var izturēt temperatūru virs 1000 grādiem un tiek plaši izmantots ekstremālās vidēs, piemēram, raķešu dzinēju sprauslās un kosmosa kuģu izolācijas slāņos. Piemēram, pēc TMOS bāzes pārklājuma izmantošanas uz noteikta veida kosmosa kuģa ārējā apvalka, simulētajos kosmosa starojuma eksperimentos virsmas temperatūra pazeminājās par 40%, bet termiskās aizsardzības efektivitāte palielinājās par 60%.
Keramikas prekursoru materiāls: kā sintētisks prekursors augstas -temperatūras silikāta keramikai, TMOS sadalās augstā temperatūrā, veidojot silīcija tīkla struktūru, piešķirot keramikas materiāliem izcilu mehānisko izturību un ķīmisko stabilitāti. Sagatavotie keramikas komponenti ir izmantoti galvenajos komponentos, piemēram, gaisa kuģu dzinēju turbīnu lāpstiņās un kodolreaktora vadības stieņos.
2. Elektroniskais, elektriskais un pusvadītāju iepakojums
Epoksīda iekapsulēšanas modifikācija: pusvadītāju iepakojumā TMOS pievienošana var samazināt epoksīda sveķu ūdens absorbcijas ātrumu par 66% un uzlabot tā izturību pret karstuma triecienu. Noteikts mikroshēmu ražotājs ir palielinājis iepakojuma iznākuma līmeni no 91,8% līdz 98,5%, optimizējot TMOS saturu, ietaupot vairāk nekā 10 miljonus juaņu ikgadējās izmaksās.
Ķīmiskās tvaiku pārklāšanas (CVD) process: TMOS kalpo kā silīcija avots un CVD procesa laikā sadalās amorfās silīcija dioksīda plānās kārtiņās, kuras izmanto, lai ražotu integrālās shēmas izolācijas slāņus, fotorezista aizsargslāņus utt. Tomēr iekšzemes 9N līmeņa elektroniskās klases TMOS joprojām ir atkarīgas no importa, kā rezultātā iekšzemes iekārtu ražošanas ātrums ir 2% gap.
3. Jaunās enerģijas jomā
Litija bateriju separatora pārklājums: nano silīcija dioksīda daļiņas, ko radatetrametilortosilikātshidrolīzi var vienmērīgi pārklāt uz separatora virsmas, veidojot blīvu porainu struktūru. Eksperimentālie dati liecina, ka ar TMOS pārklātas membrānas termiskās saraušanās ātrums pie 250 grādiem ir mazāks par 1%, savukārt neapstrādātas membrānas saraušanās ātrums ir 35%, ievērojami uzlabojot akumulatora drošību.
Fotoelektriskās plēves pretatstarošana: TMOS balstītu nanomateriālu ievietošana fotoelektrisko moduļu iekapsulēšanas plēvē var palielināt saules caurlaidību par 2,3% un palielināt viena moduļa ikgadējo elektroenerģijas ražošanu par aptuveni 15 grādiem.
Jaunie lietojumu scenāriji: "tehnoloģiskā saikne" starpnozaru inovācijām
1. Ēku aizsardzība un materiālzinātne
Betona pretkorozijas uzlabošana: aizsargpārklājums, ko veido TMOS un silikāta šķīduma kombinācija, var iekļūt betona iekšpusē par vairāk nekā 10 mm, veidojot blīvu silīcija tīkla struktūru. Piekrastes korozīvā vidē ar TMOS apstrādāto betona konstrukciju kalpošanas laiks tiek pagarināts līdz 30 gadiem, kas ir trīs reizes vairāk nekā tradicionālajiem materiāliem.
Aerogela siltumizolācijas materiāls: silīcija dioksīda aerogelam, kas sagatavots ar solgēla metodi ar TMOS kā silīcija avotu, siltumvadītspēja ir tik zema kā 0,012 W/(m · K), kas ir tikai 1/3 no polistirola plātnes. No tā izgatavotā izolācijas plāksne ir izmantota tādos gadījumos kā Arktikas zinātniskās izpētes stacijas un īpaši zemas temperatūras saldētavas.
2. Biomedicīna un audu inženierija
Bioaktīvais stikls: bioaktīvs stikls, kas iegūts, saķepinot augstā temperatūrā{0}}TMOS, kas sajaukts ar kalcija sāļiem un fosfātiem, kas var veicināt kaulu šūnu adhēziju un proliferāciju. Eksperimenti ar dzīvniekiem ir parādījuši, ka kaulu defektu modelis, kas implantēts ar TMOS bāzes stikla sastatnēm, var radīt par 40% vairāk jaunu kaulu 4 nedēļu laikā, salīdzinot ar tradicionālajiem materiāliem.
Zāļu kontrolētas izdalīšanās nesējs: mezoporainas silīcija dioksīda nanodaļiņas, kas sagatavotas TMOS hidrolīzes kondensācijas reakcijā ar īpatnējo virsmas laukumu 1000 m²/g, var ielādēt ķīmijterapijas medikamentu doksorubicīnu un panākt pH reaģējošu izdalīšanos. Preklīniskie pētījumi ir apstiprinājuši, ka tā audzēju nomācošā iedarbība ir 2,8 reizes lielāka nekā brīvo zāļu iedarbība.
3. Sadzīves elektronika un viedie materiāli
Flexible display packaging: TMOS based inorganic organic hybrid material, with high light transmittance (>92%) un zems lieces modulis (<1GPa), can meet the strict requirements of foldable screen phones for packaging layers. After using this material in the latest folding machine of a certain brand, the screen bending life has exceeded 500000 times.
Pašlabojošs pārklājums: ieviešot dinamiskās kovalentās saites, TMOS atvasinājumus var izmantot, lai sagatavotu pārklājumus ar skrāpējumu pašdziedināšanas funkciju. Imitētajās ikdienas nodiluma pārbaudēs skrāpējumi uz pārklājuma virsmas var pilnībā izzust 30 minūšu laikā, atjaunošanās ātrums ir 98%.
1. Zaļās sintēzes process
Katalītiskās sistēmas optimizācija: Tradicionālajā TMOS sintēzē tiek izmantota silīcija tetrahlorīda metode, kas rada lielu daudzumu HCl izplūdes gāzu. Jaunais molekulārā sieta katalizators var panākt tiešu metanola un silīcija pulvera esterizāciju, palielinot atomu izmantošanas līmeni līdz 95% un samazinot izplūdes gāzu emisijas par 80%.
Slēgtā cikla otrreizējās pārstrādes tehnoloģija: ir izstrādāta "hidrolīzes reģenerācijas" cikla sistēma, lai novērstu TMOS neatgriezeniskās hidrolīzes īpašības. Kontrolējot reakcijas apstākļus, silīcija elementa reģenerācijas ātrumu atkritumu šķidrumā var palielināt līdz 90%, un izmaksas par vienu tonnu produkta var samazināt par 2000 juaņām.
2. Augstas veiktspējas-materiālu izstrāde
Gradienta funkcionālie materiāli: izmantojot TMOS un silīcija organisko monomēru kopolimerizācijas reakciju, var sagatavot gradientu materiālus ar nepārtraukti mainīgiem termiskās izplešanās koeficientiem. Šis materiāls ir izmantots kosmosa kuģu termiskās aizsardzības sistēmās, efektīvi atrisinot plaisāšanas problēmu, ko izraisa termiskais stress tradicionālajos materiālos.
3D drukas sveķi: regulējot TMOS hidrolīzes ātrumu, ir izstrādāti UV cietinātie sveķi, kas īpaši paredzēti 3D drukāšanai. Tā drukas precizitāte sasniedz 20 μm, ko var izmantot augstas-precizitātes ierīču, piemēram, mikrofluidisko mikroshēmu un optisko lēcu, ražošanai.
3. Starpdisciplināra integrācija un inovācija
Kvantu punktu iekapsulēšana:Tetrametilortosilikātsuz silīcija dioksīda bāzes izgatavots apvalks var efektīvi pasivēt kvantu punktu virsmas defektus, palielinot fluorescences kvantu iznākumu līdz 85%. Šī tehnoloģija ir piemērota Mini LED fona apgaismojuma moduļiem, kuru krāsu gammas pārklājuma līmenis pārsniedz 120% no NTSC.
Neironu saskarnes materiāls: TMOS atvasinājumi tiek apvienoti ar vadošiem polimēriem, lai sagatavotu neironu elektrodu pārklājumu, kas apvieno bioloģisko savietojamību un vadītspēju. Eksperimentos ar primātiem pārklājums var stabili ierakstīt neironu signālus vairāk nekā 6 mēnešus, nodrošinot galveno materiālu atbalstu smadzeņu datora saskarnes tehnoloģijai.
Populāri tagi: tetrametilortosilikāts cas 681-84-5, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, vairumtirdzniecība, pirkt, cena, vairumā, pārdošana